Nona Edizione Settimana Moda CampusFP a Madrid Focalizzata su AI e Uniformi Professionali
Modificato da: Olga Samsonova
La nona edizione della Settimana della Moda CampusFP si terrà il 6 febbraio 2026, fungendo da piattaforma per l'educazione professionale progressista che unisce formazione pratica e requisiti del mercato del lavoro nella Comunità di Madrid. L'evento riunirà studenti dei centri di formazione professionale per presentazioni sia fisiche che digitali, consolidando il legame tra il sistema educativo e le esigenze settoriali.
L'iniziativa si configura come un laboratorio essenziale, coprendo un ampio spettro di discipline cruciali per il settore moda e design. Le aree di competenza spaziano dalla concettualizzazione del design alla realizzazione di cartamodelli, dalla cura dello styling alla produzione audiovisiva e alla gestione logistica dell'evento. Questa copertura multidisciplinare mira a formare studenti capaci non solo di creare, ma anche di gestire le complessità produttive contemporanee.
Oltre cento studenti parteciperanno alle sfilate curate da istituti quali l'IES Barrio de Bilbao e Artediez. Un elemento centrale di questa edizione sarà la sfilata digitale, interamente dedicata alla visione del futuro delle uniformi professionali. Gli studenti hanno utilizzato l'intelligenza artificiale come strumento di ideazione per sviluppare capi di abbigliamento da lavoro futuristici destinati a ruoli essenziali, inclusi la difesa civile e i servizi di assistenza medica d'urgenza, integrando estetica e funzionalità.
La Comunità di Madrid sostiene queste iniziative per rafforzare la competitività del sistema educativo professionale e potenziare l'occupabilità dei diplomati. L'evento facilita inoltre l'accesso diretto a professionisti affermati del settore e ai rappresentanti dei media, elementi fondamentali per la costruzione di reti professionali. L'attenzione all'AI e alle uniformi di servizio segna un progresso verso la digitalizzazione della moda professionale, un ambito dove la precisione e l'ergonomia dettate dalla tecnologia assumono priorità.
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Fonti
FashionUnited
CampusFP
CampusFP
CSFW Madrid
IED Madrid
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